EBET易博金融界2025年7月21日消息，国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“清洁EUV腔室中的结构表面”的专利，公开号CN120335251AEBET易博EBET易博，申请日期为2019年02月。
专利摘要显示，在一些总体方面，使用一种方法清洁极紫外(EUV)光源的腔室内的结构的表面EBET易博。该方法包括生成存在于邻近腔室内的非导电体的位置处的材料的等离子体状态EBET易博。该材料的等离子体状态的生成包括在邻近非导电体的位置处电磁感应出电流，从而将邻近非导电体的材料从第一状态转变为等离子体状态。该材料的等离子体状态包括等离子体粒子，至少一些等离子体粒子是该材料的自由基EBET易博。该方法还包括使得等离子体粒子能够经过结构表面，以在不从EUV光源的腔室中去除结构的情况下，从结构表面去除碎片。
